森品源第二届智能印染学术研讨会在新举行

18年7月7日，，，森品源第二届全国智能印染“新技术 新工艺 新装备”学术研讨会在新昌举行。。。。来自印染行业的400余名专业人士云集新昌
，，，
，围绕当前出色的印染工艺技术，，通过解读国家政策，，，分析行业形势，，，宣讲先进工艺，，共商加快发展印染行业的对策、、举措等。。。。

研讨会上
，，，十余位相关企业负责人以“新技术 新工艺 新装备”为主题分别发言
，，
，从不同角度分享了印染助剂
、、前处理
、、退浆、
、、、染色、、、、水洗、、烘干、、定形及生产管理等智能发展现状及趋势。。。会后，，，，与会人员还赴浙江森品源印染机械有限公司参观考察。。。。

近年来
，，新昌作为浙江省智能纺织印染装备制造基地和浙江省智能纺织印染装备产业技术创新综合试点
，，已经形成了一批以森品源工业股份有限公司为代表，，，具有自主知识产权、、自动化程度高、
、、、技术水平先进的纺织印染装备的工业企业。
。下一阶段，，新昌还将进一步深化智能纺织印染装备领域的交流和合作，
，，着力推进我县印染装备产业的发展。
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